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Autor Peláez, R. |
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Mártil de la Plaza, Ignacio ; González Díaz, Germán ; Dueñas, S. ; Peláez, R. ; Castán, E. ; Barbolla, J. | Materials Research Society | 1998We have obtained Al/SiNx:H/Si and Al/SiNx:H/InP Metal-Insulator-Semiconductor devices by directly depositing silicon nitride thin films on silicon and indium phosphide wafers by the Electron Cyclotron Resonance Plasma method at 200 degrees C. Th[...]texto impreso
Mártil de la Plaza, Ignacio ; González Díaz, Germán ; Barbolla, J. ; Castán, E. ; Dueñas, S. ; Peláez, R. ; Pinacho, R. ; Quintanilla, L. | Amer Inst Physics | 1997-08-11Room temperature conductance transients in the SiNx:H/Si interface are reported. Silicon nitride thin films were directly deposited on silicon by the low temperature electron-cyclotron-resonance plasma method. The shape of the conductance transi[...]